10.大尺寸高纯稀有金属靶材。6～8.5高线代TFT-LCD和PDP用高纯金属及金属陶瓷，先进封装用高纯钛及钨钛等高精密、高密度、大尺寸靶材。靶材纯度为电子级4N～6N，相对密度大于99.5%，与背板焊合率大于98％，靶材成膜后薄膜均匀性大于95％，满足TFT-LCD、PDP平板显示和先进封装制造要求，通过主流靶材应用厂商认证，实现产业化生产。
三、支持原则
（一）坚持高端化发展。瞄准国际先进水平，优先支持掌握核心技术、工艺及关键装备、创新特点明显、技术水平领先、产品附加值高、具有较强示范作用的项目。
（二）坚持市场导向。紧紧围绕国民经济和社会发展重大需求，以企业为主体，重点支持产业化基础好、市场前景广阔、能够迅速形成规模化发展的项目。
（三）坚持产业链协同和可持续发展。鼓励原料生产、材料加工和器件制造企业及科研院所密切协作，共同实施示范项目，优先支持上下游联系紧密、合作机制稳定、产学研用相结合的项目；鼓励形成持续的高水平开发能力和技术开发团队。
四、申报条件
（一）项目申报单位应是在中华人民共和国境内注册、具有独立法人资格的以稀土稀有金属材料及其器件为主营业务的生产单位。
（二）项目应在材料品种、性能、工艺技术等方面有重大突破，指标达到国内领先或国际先进水平，成果处于中试、产业化或初期应用阶段；具有以生产企业为主体，联合上游科研或下游应用企业开展示范工程项目的具体实施机制。项目申报单位与合作单位的工作任务、考核指标、知识产权归属明确，并签订相应的合同和协议。
（三）申报单位须具备常设的技术开发机构、较高的研发投入水平，稳定的技术团队和相关领域前期研发基础，较强的资金筹措和项目实施能力，以及较好的资信等级，资产负债率在合理范围内。建设项目应符合有关项目审批、核准或备案程序。
五、专项申报程序和要求
（一）申报单位要根据《
国务院关于投资体制改革的决定》（国发〔2004〕20号）和《
产业结构调整指导目录（2011年本）》要求和支持重点，参照《
国家高技术产业发展项目管理暂行办法》（发展改革委令2006年第43号）和《项目实施方案编制要点》（见附件1），编写项目实施方案，附件请按规定顺序装订。项目申报单位对所报项目内容进行认真审核并对文件的真实性负全责。
